精密塗佈

• 超薄塗佈能力強
  可塗佈厚度極薄，通常落在 1~20 µm 範圍內，適合光學膜、保護膜等薄層應用。
• 高均勻性與穩定性
  塗層一致性佳、膜厚變異小，適合大面積塗佈產品。
• 低黏度液體適用性佳
  可穩定塗佈光學膠、保護層、防污、防霧等功能性液體。
• 高解析度與圖案化塗佈能力
  塗佈面積可依雕刻滾筒（Gravure Roll）設計靈活調整，支援非全面式塗佈，能實現 點狀、線狀、區塊式 等多種塗佈模式，並具備極高解析度與準確度。
• 連續性高，適合高速大量生產
  與捲對捲系統結合性佳，產線自動化程度高。
• 結構簡單、操作維護方便
  設備構造較直覺，操作穩定，維護相對容易。

• 高精度膜厚控制
  利用精密的狹縫塗佈頭設計與流量控制，可精準控制塗層厚度，通常範圍為 30 ~ 40 µm，厚薄一致性極佳。
• 全面式均勻塗佈
  適合實現全面塗佈，塗層均勻，無邊緣或條痕問題，特別適合大尺寸基材。
• 材料利用率高，無材料浪費
  為閉式系統（密封供液），可減少材料浪費，降低成本。
• 適用中高黏度液體
  適合塗佈中高黏度液體，如光學膠、導電膠、黏著劑等，避免流痕或不均現象。
• 適合連續自動化生產
  可與捲對捲系統整合，高效率且穩定。
• 非接觸式塗佈適用於壓力敏感基材
  如果基材對機械壓力敏感，則非接觸式的 Slot Die 塗佈技術是更好的選擇，避免對基材造成任何壓力或損傷。

處理塗佈過程中產生的揮發物（VOCs）
在精密塗佈製程中，若使用溶劑型塗佈液，常會產生揮發性有機化合物（VOCs）。這些物質若未妥善處理，可能影響產品品質、人體健康，甚至違反環保法規。為有效控制 VOCs 排放，常見處理方式如下：

• 熱風乾燥與排氣系統
  透過配置乾燥機（如熱風乾燥機）與排氣系統，在塗佈後迅速蒸發溶劑成分，並即時將揮發氣體排出，防止累積於工作環境中。熱風乾燥有助於加速塗佈液中揮發物的蒸發，同時保持其他成分的穩定性，以確保塗層品質並符合環保法規。
• 有機廢氣處理設備
  • 活性碳吸附：吸附濃度較低的 VOCs。
  • 熱氧化爐：高效分解有機氣體為 CO₂ 與水。
  • 催化氧化：利用催化劑降低分解溫度，節能且有效。
  • 冷凝回收：適用於高濃度、高沸點溶劑的回收。
• 密閉塗佈與乾燥系統
  將塗佈與乾燥區域密閉化，有助於集中收集與處理揮發氣體，提升安全性與回收效率。
• 使用低 VOC 或無溶劑配方
  如採用水性塗料、UV 固化系統或 100% 固含量配方，可從源頭減少 VOCs 產生。
• 製程與材料條件優化
  透過調整溶液配方、基材傳輸速度、乾燥溫度與風速等參數，達到減少 VOCs 釋放與提升塗佈品質的效果。